Добавить в закладки   Войти или зарегистрироваться
 
Суббота, 27 апреля 2024, 07:58
+14
   
2м/с
  94%
 
  92.0134   98.7187
 
 

«НИИМЭ и Микрон» - история длинной в 50 лет

Общество
27.02.2014 13:31
ОАО «НИИМЭ и Микрон». © Зеленоград24

Одно из главных предприятий города отмечает в этом году полувековой юбилей.

По сообщению префектуры, ведущее зеленоградское предприятие ОАО «НИИМЭ и Микрон» отмечает в этом году полувековой юбилей. Предприятие было зарегистрировано как юридическое лицо 9 марта далекого 1964 года.

Первый директор «Микрона» Камиль Валиев рассказывал, что существует легенда о том, как Зеленоград из города будущих швейников превратился в центр отечественной микроэлектроники. Согласно этой легенде в 1956 году в Ленинград приехал член коммунистической партии США Филипп Старос. Американец возглавил лабораторию СЛ-11, которая в 1959 году была расширена в КБ-2 электронной техники. На предприятии Старос показал Никите Хрущеву образцы микроприемников и предложил план по созданию советского центра электроники в Зеленограде.

В школе швейников и школе металлистов, в то время основные городские производственные строения, в начале 1960-х годов разместились первые предприятия. Одновременно проектировались первые зеленоградские НИИ, началось строительство НИИ молекулярной электроники.

В январе 1965 года директором НИИМЭ был назначен 34-летний доктор физико-математических наук Камиль Валиев. На тот момент штат сотрудников предприятия составлял уже 183 человека.

В первые годы становления Зеленограда как центра микроэлектроники самым дефицитным ресурсом было время. При этом средства из бюджета страны поступали практически в неограниченном размере.

Для того, чтобы сэкономить время на проектирование здания НИИМЭ, за основу взяли проект часового завода - двухэтажное здание, где по периметру располагались комнаты персонала. На первом этаже располагался заводской цех, а второй этаж предназначался для разработчиков. Строительство здания было закончено уже в 1966 году. На время возведения собственного помещения НИИМЭ было размещено в одном из цехов завода «Элион», а для опытного цеха был выделен один пролет в «чистом зале» предприятия «Компонент».

В 1966 году на предприятии была организована производственная кооперация: НИИ материаловедения поставлял материалы, оборудование давал НИИ точного машиностроения. В скором времени опытный цех НИИМЭ вышел на производство 100 тысяч транзисторов в месяц. В этом же году опытный цех начал выпуск первых серий микросхем «Иртыш» и других интегральных схем собственной разработки. Ежегодно в НИИ разрабатывалось примерно 25 типов ИС.

Стоит отметить, что к этому моменту коллектив НИИ значительно вырос и уже не мог совмещать на имеющейся площади разработку и изготовление новых типов микросхем. Так, 1 февраля 1967 года приказом министра электронной промышленности СССР Александра Шокина при НИИ был организован завод по производству интегральных схем «Микрон». При этом 27 сентября был заложен его фундамент.

К 1970 году «Микрон» изготовил и поставил различным отраслям более 3,5 миллионов микросхем. В 1971 году под монтаж были сданы все четыре секции завода площадью более 60 тысяч квадратных метров.

В 1980 году на заводе «Микрон» была выпущена 100-миллионная микросхема, начат выпуск ИС для программы «Марс-Венера», создано производство по системе «чистая» комната. Также в 1980 году был сдан в эксплуатацию административно-лабораторный корпус площадью более 10 тысяч квадратных метров.

Несмотря на тяжелые времена, которые «Микрон» пережил в смутные 90-е годы 20 века, завод сохранил свою целостность и специализацию.

В 2012 году «Микрон» успешно освоил и открыл производство ИС с топологическими нормами 90 нанометров, а в 2014 году планируется начать серийное производство микросхем по топологии 65 нанометров.

По словам генерального директора ОАО «НИИМЭ И Микрон» Геннадия Красникова «Освоение «Микроном» 90-нм технологии и успешный запуск производства в 2012 году во многом помог подготовить инфраструктуру, инженеров-технологов и разработчиков к переходу на новый топологический уровень. Получив уникальный опыт разработки собственной технологии в дополнение к уже имеющемуся у нас опыту создания современного микроэлектронного производства, мы сможем приступить к серийному производству по 65-нм технологии, одновременно двигаясь к следующему топологическому уровню – 45 нанометрам».
Обнаружив в тексте ошибку, выделите ее и нажмите Ctrl + Enter

[ ]



Последние публикации рубрики «Общество»












Новости компаний











Самое обсуждаемое за месяц
Социальные сети