В Зеленограде создан первый отечественный фотолитограф с разрешением 350 нанометров

Это установка совмещения и проекционного экспонирования, применяемая при производстве микросхем. 

Как рассказал генеральный директор АО «ЗНТЦ» Анатолий Ковалев, в новом фотолитографе существенно увеличена площадь рабочего поля (22х22 мм вместо 3,2х3,2 мм). Кроме того, установка способна обрабатывать пластины большого диаметра (200 мм вместо 150 мм в предшествующей модели). В качестве источника освещения использована не ртутная лампа (как это обычно бывает в фотолитографах), а твердотельный лазер – более мощный и энергоэффективный, с высокой долговечностью и более узким спектром. 

 Установка принята государственной комиссией, в работе которой участвовали представители отраслевых организаций и крупнейших российских производителей микроэлектроники. 

В планах Зеленоградского нанотехнологического центра — создать уже в следующем году фотолитограф с разрешением 130 нм.